logo
Goede prijs  online

details van de producten

Huis > Producten >
Elektronische Rangchemische producten
>
Halfgeleiderreinigingsmiddel HFO-1233zd(Z) - Precisie reiniging van halfgeleiders, duurzaam en regelgevend goedgekeurd HCFC-141B vervanging voor veelzijdige industriële reiniging

Halfgeleiderreinigingsmiddel HFO-1233zd(Z) - Precisie reiniging van halfgeleiders, duurzaam en regelgevend goedgekeurd HCFC-141B vervanging voor veelzijdige industriële reiniging

Merknaam: Chemfine
Modelnummer: HFO-1233zd
MOQ: 1000KG
Betalingsvoorwaarden: L/C, T/T
Detailinformatie
Plaats van herkomst:
China
Markeren:

Precisiereiniging op halfgeleiderniveau HFO-1233zd(Z)

,

Duurzaam en conform de regelgeving HCFC-141B Vervanging

,

Veelzijdige industriële reinigingsoplossing Halfgeleiderreinigingsmiddel

Productomschrijving
Vervanging van halfgeleiderreinigingsmiddelen
HCFC-141B HFO-1233zd HFO-1336mz FS-39 Vervanging HCFC's Cas 99728-16-2
Product Verkooppunten
  • Ideale HCFC-141B Vervanging: Onze HFO-1233zd(Z) biedt een vergelijkbare reinigingsprestatie als HCFC-141B met een superieur milieuprofiel, waardoor het de perfecte directe vervanging is voor bestaande reinigingsprocessen.
  • Halfgeleiderkwaliteit Precisie Reiniging: Met ultra-hoge zuiverheid en gecontroleerde onzuiverheidsniveaus is onze CAS 99728-16-2 speciaal ontworpen voor het reinigen van halfgeleiderwafers, het strippen van fotoresist en het reinigen van precisie elektronische componenten.
  • Duurzaam en Regelgevend Conform: Nul ozonafbrekend potentieel en ultra-laag aardopwarmingsvermogen, volledig conform het Montreal Protocol, de EU F-Gas regelgeving en het US EPA SNAP programma.
  • Veelzijdige Industriële Reinigingsoplossing: Geschikt voor een breed scala aan toepassingen, waaronder ontvetten van metaal, reinigen van vliegtuigonderdelen, dampontvetten en oplosmiddelgebaseerde reinigingssystemen.
  • Veilig en Gemakkelijk te Hanteren: Niet-ontvlambaar, lage toxiciteit, compatibel met de meeste gangbare materialen die worden gebruikt in industriële reinigingsapparatuur, waardoor operationele risico's worden verminderd en procesintegratie wordt vereenvoudigd.
Productintroductie
HFO-1233zd(Z), ook bekend als Cis-1-chloor-3,3,3-trifluorpropeen, wordt geïdentificeerd door CAS-nummer 99728-16-2. Het is een milieuvriendelijk hydrofluoroolefine (HFO) oplosmiddel van de volgende generatie, speciaal ontwikkeld als een hoogwaardige vervanging voor HCFC-141B, HFO-1336mz, FS-39 en andere ozonafbrekende HCFC's en gefluoreerde oplosmiddelen met een hoog GWP.
Met een nul ozonafbrekend potentieel (ODP), een ultra-laag aardopwarmingsvermogen (GWP) en een uitstekende oplossende kracht, is HFO-1233zd(Z) het voorkeursreinigingsmiddel geworden voor de halfgeleider- en elektronica-industrie. Het wordt veel gebruikt in precisie reiniging, dampontvetten, verwijdering van fotoresistresten en andere kritische industriële reinigingsprocessen, waarbij betrouwbare reinigingsprestaties worden geleverd en fabrikanten helpen te voldoen aan wereldwijde milieuvoorschriften.
Gedetailleerde Toepassingen
Halfgeleider & Elektronica Productie
Primair gebruik voor precisie reiniging van halfgeleiderwafers, verwijdering van fotoresistresten, organische verontreinigingen en fijne deeltjes van wafers en elektronische componenten; ideaal voor reinigingsprocessen van cleanroomkwaliteit.
Industrieel Dampontvetten
Gebruikt in dampontvettersystemen voor metalen, plastic en keramische componenten, waarbij effectief oliën, vetten, fluxresten en bewerkingsvloeistoffen worden verwijderd.
Luchtvaart & Precisietechniek
Voor het reinigen van hoog-precisie vliegtuigonderdelen, optische onderdelen en medische apparaten, met garantie van nul residu en hoge reinheidsnormen.
Koelmiddel & Schuimblaas Hulpstof
Ook gebruikt als blaasmiddel met laag GWP voor polyurethaanschuimen en als component in koelmiddelmengsels met laag GWP.
Algemene Industriële Reiniging
Geschikt voor zwaar ontvetten, reinigen van printplaten en andere industriële reinigingstoepassingen die hoge oplossende kracht en naleving van milieuvoorschriften vereisen.
Basis Fysische Eigenschappen
EigenschapWaarde/Beschrijving
CAS Nummer99728-16-2
Chemische NaamCis-1-chloor-3,3,3-trifluorpropeen (HFO-1233zd(Z))
Molecuulformule(Z)-CF3CH=CHCl
Molecuulgewicht130,5 g/mol
Kookpunt (1 atm)39,0 °C
Smeltpunt-101,0 °C
Vloeistofdichtheid (20°C, 760 mmHg)1,312±0,06 g/cm³
Viscositeit bij 25°C0,37 mPa·s
Dampdruk bij 20°C49 kPa
Wateroplosbaarheid950 ppm
VlampuntGeen
KB-waarde34
Technische Specificaties
ITEMSPECIFICATIESTANDAARD RESULTAAT
Zuiverheid (Wt%)≥99,8≥99,8
Vocht (Wt%)≤0,002≤0,002
Zuurheid (als HCl, Wt%)≤0,0001≤0,0001
Verdampingsresidu (Wt%)≤0,01≤0,01
Chloride TestGeslaagdGeslaagd
Gespecialiseerde Toepassingen
Reiniging van Halfgeleiderwafers
Onze HFO-1233zd(Z) is speciaal geformuleerd voor de strenge eisen van de halfgeleiderproductie, waarbij effectief fotoresistresten, organische verontreinigingen en sub-micrometer deeltjes van siliciumwafers worden verwijderd zonder delicate waferstructuren te beschadigen. De ultra-hoge zuiverheid garandeert nul contaminatie, waardoor het ideaal is voor de productie van halfgeleiders met geavanceerde nodes.
Precisie Dampontvetten
Met een geschikt kookpunt en uitstekende oplossende kracht is HFO-1233zd(Z) perfect voor dampontvettersystemen, wat zorgt voor snelle, residuvrije reiniging van metalen, plastic en keramische componenten in de auto-, luchtvaart- en elektronicaindustrie. Het niet-ontvlambare karakter garandeert een veilige werking in ontvetterapparatuur op hoge temperatuur.
Vervanging van HCFC-141B & Oplosmiddelen met Hoog GWP
Als directe vervanging voor HCFC-141B, HFO-1336mz, FS-39 en andere gefluoreerde oplosmiddelen met een hoog GWP, behoudt onze HFO-1233zd(Z) een vergelijkbare reinigingsprestatie, terwijl het risico op ozonafbraak wordt geëlimineerd en de ecologische voetafdruk wordt verkleind, waardoor fabrikanten soepel kunnen overstappen op milieuvriendelijke reinigingsprocessen zonder kostbare apparatuurwijzigingen.
Verpakking & Logistiek
Standaard Verpakking: 25 kg UN-goedgekeurde stalen drums, 250 kg stalen drums, of 1000 kg IBC-totes.
Opslag: Opslaan in een koel, droog, goed geventileerd magazijn. Buiten direct zonlicht, warmtebronnen en incompatibele materialen houden.
Veiligheidsklasse: Niet-ontvlambaar, laag-toxisch chemisch product, conform internationale transportvoorschriften voor gevaarlijke goederen.
Synoniemen
Cis-1-chloor-3,3,3-trifluorpropeen; HFO-1233zd(Z); HFO-1233zd; Z-HFO-1233zd; HCFC-141B Vervanging; CAS 99728-16-2
Veelgestelde Vragen
V: Is HFO-1233zd(Z) een directe vervanging voor HCFC-141B?
A: Ja, HFO-1233zd(Z) heeft een vergelijkbare oplossende kracht, kookpunt en materiaalcompatibiliteit als HCFC-141B, waardoor het een bijna directe vervanging is voor de meeste bestaande reinigings- en ontvetprocessen, met minimale of geen apparatuurwijzigingen vereist.
V: Wat is het milieuprofiel van HFO-1233zd(Z)?
A: HFO-1233zd(Z) heeft een nul ozonafbrekend potentieel (ODP) en een ultra-laag aardopwarmingsvermogen (GWP) van minder dan 1, waardoor het volledig voldoet aan het Montreal Protocol, de EU F-Gas regelgeving en het US EPA SNAP programma voor gebruik als reinigingsmiddel.
V: Is HFO-1233zd(Z) ontvlambaar?
A: Nee, HFO-1233zd(Z) heeft geen vlampunt, waardoor het niet ontvlambaar is onder normale bedrijfsomstandigheden, wat brandgevaren in industriële reinigings- en productievestigingen aanzienlijk vermindert.
V: Welke zuiverheidsgraden van HFO-1233zd(Z) bieden jullie aan?
A: Wij bieden standaard industriële kwaliteit (≥99,5% zuiverheid) en elektronische/halfgeleiderkwaliteit (≥99,8% zuiverheid) HFO-1233zd(Z) aan, met strikte controle op vocht, zuurgraad en resterende onzuiverheden om te voldoen aan de behoeften van verschillende toepassingen.
Goede prijs  online

Details Van De Producten

Huis > Producten >
Elektronische Rangchemische producten
>
Halfgeleiderreinigingsmiddel HFO-1233zd(Z) - Precisie reiniging van halfgeleiders, duurzaam en regelgevend goedgekeurd HCFC-141B vervanging voor veelzijdige industriële reiniging

Halfgeleiderreinigingsmiddel HFO-1233zd(Z) - Precisie reiniging van halfgeleiders, duurzaam en regelgevend goedgekeurd HCFC-141B vervanging voor veelzijdige industriële reiniging

Merknaam: Chemfine
Modelnummer: HFO-1233zd
MOQ: 1000KG
Betalingsvoorwaarden: L/C, T/T
Detailinformatie
Plaats van herkomst:
China
Merknaam:
Chemfine
Modelnummer:
HFO-1233zd
Min. bestelaantal:
1000KG
Betalingscondities:
L/C, T/T
Markeren:

Precisiereiniging op halfgeleiderniveau HFO-1233zd(Z)

,

Duurzaam en conform de regelgeving HCFC-141B Vervanging

,

Veelzijdige industriële reinigingsoplossing Halfgeleiderreinigingsmiddel

Productomschrijving
Vervanging van halfgeleiderreinigingsmiddelen
HCFC-141B HFO-1233zd HFO-1336mz FS-39 Vervanging HCFC's Cas 99728-16-2
Product Verkooppunten
  • Ideale HCFC-141B Vervanging: Onze HFO-1233zd(Z) biedt een vergelijkbare reinigingsprestatie als HCFC-141B met een superieur milieuprofiel, waardoor het de perfecte directe vervanging is voor bestaande reinigingsprocessen.
  • Halfgeleiderkwaliteit Precisie Reiniging: Met ultra-hoge zuiverheid en gecontroleerde onzuiverheidsniveaus is onze CAS 99728-16-2 speciaal ontworpen voor het reinigen van halfgeleiderwafers, het strippen van fotoresist en het reinigen van precisie elektronische componenten.
  • Duurzaam en Regelgevend Conform: Nul ozonafbrekend potentieel en ultra-laag aardopwarmingsvermogen, volledig conform het Montreal Protocol, de EU F-Gas regelgeving en het US EPA SNAP programma.
  • Veelzijdige Industriële Reinigingsoplossing: Geschikt voor een breed scala aan toepassingen, waaronder ontvetten van metaal, reinigen van vliegtuigonderdelen, dampontvetten en oplosmiddelgebaseerde reinigingssystemen.
  • Veilig en Gemakkelijk te Hanteren: Niet-ontvlambaar, lage toxiciteit, compatibel met de meeste gangbare materialen die worden gebruikt in industriële reinigingsapparatuur, waardoor operationele risico's worden verminderd en procesintegratie wordt vereenvoudigd.
Productintroductie
HFO-1233zd(Z), ook bekend als Cis-1-chloor-3,3,3-trifluorpropeen, wordt geïdentificeerd door CAS-nummer 99728-16-2. Het is een milieuvriendelijk hydrofluoroolefine (HFO) oplosmiddel van de volgende generatie, speciaal ontwikkeld als een hoogwaardige vervanging voor HCFC-141B, HFO-1336mz, FS-39 en andere ozonafbrekende HCFC's en gefluoreerde oplosmiddelen met een hoog GWP.
Met een nul ozonafbrekend potentieel (ODP), een ultra-laag aardopwarmingsvermogen (GWP) en een uitstekende oplossende kracht, is HFO-1233zd(Z) het voorkeursreinigingsmiddel geworden voor de halfgeleider- en elektronica-industrie. Het wordt veel gebruikt in precisie reiniging, dampontvetten, verwijdering van fotoresistresten en andere kritische industriële reinigingsprocessen, waarbij betrouwbare reinigingsprestaties worden geleverd en fabrikanten helpen te voldoen aan wereldwijde milieuvoorschriften.
Gedetailleerde Toepassingen
Halfgeleider & Elektronica Productie
Primair gebruik voor precisie reiniging van halfgeleiderwafers, verwijdering van fotoresistresten, organische verontreinigingen en fijne deeltjes van wafers en elektronische componenten; ideaal voor reinigingsprocessen van cleanroomkwaliteit.
Industrieel Dampontvetten
Gebruikt in dampontvettersystemen voor metalen, plastic en keramische componenten, waarbij effectief oliën, vetten, fluxresten en bewerkingsvloeistoffen worden verwijderd.
Luchtvaart & Precisietechniek
Voor het reinigen van hoog-precisie vliegtuigonderdelen, optische onderdelen en medische apparaten, met garantie van nul residu en hoge reinheidsnormen.
Koelmiddel & Schuimblaas Hulpstof
Ook gebruikt als blaasmiddel met laag GWP voor polyurethaanschuimen en als component in koelmiddelmengsels met laag GWP.
Algemene Industriële Reiniging
Geschikt voor zwaar ontvetten, reinigen van printplaten en andere industriële reinigingstoepassingen die hoge oplossende kracht en naleving van milieuvoorschriften vereisen.
Basis Fysische Eigenschappen
EigenschapWaarde/Beschrijving
CAS Nummer99728-16-2
Chemische NaamCis-1-chloor-3,3,3-trifluorpropeen (HFO-1233zd(Z))
Molecuulformule(Z)-CF3CH=CHCl
Molecuulgewicht130,5 g/mol
Kookpunt (1 atm)39,0 °C
Smeltpunt-101,0 °C
Vloeistofdichtheid (20°C, 760 mmHg)1,312±0,06 g/cm³
Viscositeit bij 25°C0,37 mPa·s
Dampdruk bij 20°C49 kPa
Wateroplosbaarheid950 ppm
VlampuntGeen
KB-waarde34
Technische Specificaties
ITEMSPECIFICATIESTANDAARD RESULTAAT
Zuiverheid (Wt%)≥99,8≥99,8
Vocht (Wt%)≤0,002≤0,002
Zuurheid (als HCl, Wt%)≤0,0001≤0,0001
Verdampingsresidu (Wt%)≤0,01≤0,01
Chloride TestGeslaagdGeslaagd
Gespecialiseerde Toepassingen
Reiniging van Halfgeleiderwafers
Onze HFO-1233zd(Z) is speciaal geformuleerd voor de strenge eisen van de halfgeleiderproductie, waarbij effectief fotoresistresten, organische verontreinigingen en sub-micrometer deeltjes van siliciumwafers worden verwijderd zonder delicate waferstructuren te beschadigen. De ultra-hoge zuiverheid garandeert nul contaminatie, waardoor het ideaal is voor de productie van halfgeleiders met geavanceerde nodes.
Precisie Dampontvetten
Met een geschikt kookpunt en uitstekende oplossende kracht is HFO-1233zd(Z) perfect voor dampontvettersystemen, wat zorgt voor snelle, residuvrije reiniging van metalen, plastic en keramische componenten in de auto-, luchtvaart- en elektronicaindustrie. Het niet-ontvlambare karakter garandeert een veilige werking in ontvetterapparatuur op hoge temperatuur.
Vervanging van HCFC-141B & Oplosmiddelen met Hoog GWP
Als directe vervanging voor HCFC-141B, HFO-1336mz, FS-39 en andere gefluoreerde oplosmiddelen met een hoog GWP, behoudt onze HFO-1233zd(Z) een vergelijkbare reinigingsprestatie, terwijl het risico op ozonafbraak wordt geëlimineerd en de ecologische voetafdruk wordt verkleind, waardoor fabrikanten soepel kunnen overstappen op milieuvriendelijke reinigingsprocessen zonder kostbare apparatuurwijzigingen.
Verpakking & Logistiek
Standaard Verpakking: 25 kg UN-goedgekeurde stalen drums, 250 kg stalen drums, of 1000 kg IBC-totes.
Opslag: Opslaan in een koel, droog, goed geventileerd magazijn. Buiten direct zonlicht, warmtebronnen en incompatibele materialen houden.
Veiligheidsklasse: Niet-ontvlambaar, laag-toxisch chemisch product, conform internationale transportvoorschriften voor gevaarlijke goederen.
Synoniemen
Cis-1-chloor-3,3,3-trifluorpropeen; HFO-1233zd(Z); HFO-1233zd; Z-HFO-1233zd; HCFC-141B Vervanging; CAS 99728-16-2
Veelgestelde Vragen
V: Is HFO-1233zd(Z) een directe vervanging voor HCFC-141B?
A: Ja, HFO-1233zd(Z) heeft een vergelijkbare oplossende kracht, kookpunt en materiaalcompatibiliteit als HCFC-141B, waardoor het een bijna directe vervanging is voor de meeste bestaande reinigings- en ontvetprocessen, met minimale of geen apparatuurwijzigingen vereist.
V: Wat is het milieuprofiel van HFO-1233zd(Z)?
A: HFO-1233zd(Z) heeft een nul ozonafbrekend potentieel (ODP) en een ultra-laag aardopwarmingsvermogen (GWP) van minder dan 1, waardoor het volledig voldoet aan het Montreal Protocol, de EU F-Gas regelgeving en het US EPA SNAP programma voor gebruik als reinigingsmiddel.
V: Is HFO-1233zd(Z) ontvlambaar?
A: Nee, HFO-1233zd(Z) heeft geen vlampunt, waardoor het niet ontvlambaar is onder normale bedrijfsomstandigheden, wat brandgevaren in industriële reinigings- en productievestigingen aanzienlijk vermindert.
V: Welke zuiverheidsgraden van HFO-1233zd(Z) bieden jullie aan?
A: Wij bieden standaard industriële kwaliteit (≥99,5% zuiverheid) en elektronische/halfgeleiderkwaliteit (≥99,8% zuiverheid) HFO-1233zd(Z) aan, met strikte controle op vocht, zuurgraad en resterende onzuiverheden om te voldoen aan de behoeften van verschillende toepassingen.